Щелочная жидкость на водной основе для удаления остатков флюсов
Специально разработанна для процессов отмывки требующих более короткого времени взаимодействия промывочной жидкости с печатнымы узлами. Хорошо зарекомендовала себя в системах для отмывки конвейерного типа при распылении под высоким давлением. Имеет более продолжительный срок службы по сравнению с традиционными ПАВ.
Преимущества в сравнении с другими средствами очистки:
Не содержит в своем составе этаноламинов и других вредных веществ
Быстро удаляет остатки флюсов различных свинцовых и бессвинцовых паяльных паст
Имеет более продолжительный срок службы в сравнении с традиционными очищающими средствами на основе поверхностно-активных веществ (ПАВ)
Благодаря своему специальному химическому составу придает блеск паяным соединениям
Снижает риск образования пустот и раковин при заливке компаундом и герметизации
Cпособствует улучшению качества изображения модулей камер, посредством удаления остатков флюс-гелей , загрязнений и пыли с поверхности светочувствительной матрицы CMOS
Оптимально удаляет остатки флюсов после посадки кристалла на основание при производстве мощных светодиодов
Улучшает качество микросварных соединений , светотехнические характеристики и продлевает срок службы светодиодов
Обладает очень низким содержанием летучих органических соединений
Дополнительная информация:
Для процессов требующих короткого времени взаимодействия отмывочной жидкости и печатного узла
