pH-нейтральная отмывочная жидкость для очистки полупроводниковых приборов от остатков паяльных флюсов
HYDRON® SE 220 – однофазная отмывочная жидкость на водной основе, специально разработанная для применения в моечном оборудовании погружного типа. Предназначена для очистки всевозможных устройств, выводных рамок, дискретных компонентов, силовых модулей, мощных светодиодов, изделий Flip Chips и CMOS, а также кристаллов, после их посадки на основание, от остатков паяльных флюсов.
Преимущества в сравнении с другими средствами очистки:
Благодаря своей однофазной концепции, HYDRON® SE 220 отлично процессируется и обеспечивает отличные результаты очистки в моечном оборудовании погружного типа.
Выполаскивается без остатка.
pH-нейтральна, обладает превосходной совместимостью с конструкционными материалами и пассивированными поверхностями кристаллов.
HYDRON® SE 220 обеспечивает чистую и активированную (медную) поверхность, оптимально подготавливая изделия для последующих операций разварки и заливки компаундом.
Cохраняет поверхность подложки активированной на промежуток времени, необходимый для подготовки изделий к последующим операциям по сборке.
Неогнеопасна, применима практически во всех имеющихся на рынке ультразвуковых ваннах и моечных машинах погружного типа без введения дополнительных мер пожарной безопасности.
Не содержит в своем составе галогенсодежащих соединений, обладает слабым запахом.
Область применения:
Удаление флюсов от силовой электроники и микросхем
